Наука
image

Intel обещает внедрить новые литографии – в планах 7 нм, 5 нм и 3 нм

Внедрение новых литографий позволит разработать еще более новые устройства. Внедрение технологии требует улучшений в процессе производства.

Внедрение 10-нанометрового технологического процесса оказалось серьезной проблемой для Intel. Однако это не означает, что производитель не работает над еще более новыми технологиями производства процессоров. В ходе конференции, проходящей в Пекине, были обнародованы планы по внедрению новых литографических процессов.

По предоставляемой информации, производитель достиг удовлетворительного уровня 10-нанометровой литографии и до конца года планирует начать массовое производство таких процессоров.

Новая технология будет использоваться для производства моделей Ice Lake для ноутбуков и серверов Snow Ridge для связи 5G, а также революционных, многослойных процессоров Lakefield.

В ходе конференции также было изложено общее направление развития литографических процессов. После 10-нанометров технологии, планируется реализация 7 нм, 5 нм и 3 нм. Правда, производитель не уточнил сроки ввода отдельных процессов, но темпы развития будут постепенно снижаться.

Компания Intel также подчеркнула, что внедрение последующих, более низких литографических технологий, потребует внедрения улучшений в процесс производства интегральных схем. Речь идет не только об изменении конструкции процессоров на 3D и технологии EUV, но и о введении новых материалов.

30-мар, 22;52 Stacy 275 0
0

Поделиться публикацией

Комментарии - всего 0

Оставить комментарий

Информация
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикации.